Use of anionic surfactants for selective polishing of silicon dioxide over silicon nitride films using colloidal silica-based slurries: Fid-Bau Portal

Use of anionic surfactants for selective polishing of silicon dioxide over silicon nitride films using colloidal silica-based slurries

Penta, N. K. / Amanapu, H. P. / Peethala, B. C. / Babu, S. V.

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Titel:

Use of anionic surfactants for selective polishing of silicon dioxide over silicon nitride films using colloidal silica-based slurries

Beteiligte:

Penta, N. K. (Autor:in) / Amanapu, H. P. (Autor:in) / Peethala, B. C. (Autor:in) / Babu, S. V. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 283 ; 986-992

Erscheinungsdatum:

01.01.2013

Format / Umfang:

7 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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