Fachinformationsdienst BAUdigital

Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik

    Electroless chemical etching of silicon in aqueous NH"4F/AgNO"3/HNO"3 solution

    Neue Suche nach: Megouda, N.
    Neue Suche nach: Hadjersi, T.
    Neue Suche nach: Szunerits, S.
    Neue Suche nach: Boukherroub, R.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Seitennavigation

    Dokumentinformationen
    Ähnliche Titel

    Exportieren, teilen und zitieren

    Electroless chemical etching of silicon in aqueous NH"4F/AgNO"3/HNO"3 solution

    Neue Suche nach: Megouda, N.
    Neue Suche nach: Hadjersi, T.
    Neue Suche nach: Szunerits, S.
    Neue Suche nach: Boukherroub, R.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Electroless chemical etching of silicon in aqueous NH"4F/AgNO"3/HNO"3 solution

    Neue Suche nach: Megouda, N.
    Neue Suche nach: Hadjersi, T.
    Neue Suche nach: Szunerits, S.
    Neue Suche nach: Boukherroub, R.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Seitennavigation

    Dokumentinformationen
    Ähnliche Titel

    Exportieren, teilen und zitieren

    Dokumentinformationen
    Titel:

    Electroless chemical etching of silicon in aqueous NH"4F/AgNO"3/HNO"3 solution

    Beteiligte:

    Megouda, N. (Autor:in) / Hadjersi, T. (Autor:in) / Szunerits, S. (Autor:in) / Boukherroub, R. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 284 ; 894-899

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2013

    Format / Umfang:

    6 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

    Ähnliche Titel

    Metal-assisted electroless etching of silicon in aqueous NH4HF2 solution

    Brahiti, N. / Bouanik, S. A. / Hadjersi, T. | British Library Online Contents | 2012

    Au-assisted electroless etching of silicon in aqueous HF/H2O2 solution

    Megouda, N. / Hadjersi, T. / Piret, G. et al. | British Library Online Contents | 2009

    Application of Polyvinylpyrrolidone/AgNO~3 Colloid in Laser-Induced Patterned Electroless Copper Plating

    Chen, D.-s. / Lu, Q.-h. | British Library Online Contents | 2010

    Preparation and Characterization of Porous Silicon in HF-AgNO~3 Solution

    Yang, W.B. / Wun, J. / He, F.F. et al. | British Library Online Contents | 2011

    Processing Ni-YSZ anode by electroless Ni deposition with AgNO~3 as activator

    Bauri, R. | British Library Online Contents | 2011

    Nach oben