Fabrication of Low Stress PECVD-SiNx Film in High Frequency Mode: Fid-Bau Portal

Fabrication of Low Stress PECVD-SiNx Film in High Frequency Mode

Shang, Z.G. / Li, D.L. / Wen, Z.Y.

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Titel:

Fabrication of Low Stress PECVD-SiNx Film in High Frequency Mode

Beteiligte:

Shang, Z.G. (Autor:in) / Li, D.L. (Autor:in) / Wen, Z.Y. (Autor:in) / Tang, F.

Erschienen in:

Micro-Nano Technology XIV ; 22-27

KEY ENGINEERING MATERIALS ; 562/565

Erscheinungsdatum:

01.01.2013

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

1013-9826

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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