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About the key factors driving the resistivity of AuO"x thin films grown by reactive magnetron sputtering

Dolique, V. / Thomann, A. L. / Millon, E. / Petit, A. / Brault, P.

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Titel:

About the key factors driving the resistivity of AuO"x thin films grown by reactive magnetron sputtering

Beteiligte:

Dolique, V. (Autor:in) / Thomann, A. L. (Autor:in) / Millon, E. (Autor:in) / Petit, A. (Autor:in) / Brault, P. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 295 ; 194-197

Erscheinungsdatum:

01.01.2014

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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