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    Titel:

    Effect of reactive magnetron sputtering parameters on structural and electrical properties of hafnium oxide thin films

    Beteiligte:

    Szymanska, M. (Autor:in) / Gieraltowska, S. (Autor:in) / Wachnicki, L. (Autor:in) / Grobelny, M. (Autor:in) / Makowska, K. (Autor:in) / Mroczynski, R. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 301 ; 28-33

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2014

    Format / Umfang:

    6 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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