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    Titel:

    Effect of Different Oxygen Flow Rate on Physical Properties of ITO Thin Films Deposited by Ion-Assistant Electron Beam Evaporation

    Beteiligte:

    Qiu, Y. (Autor:in) / Meng, D.Y. (Autor:in) / Chen, Y.F. (Autor:in) / Zu, C.K. (Autor:in) / Pan, W. / Gong, J.

    Erschienen in:

    High-Performance Ceramics VIII ; 1004-1008

    KEY ENGINEERING MATERIALS ; 602/603

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2014

    Format / Umfang:

    5 pages

    ISSN:

    1013-9826

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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