Ferroelectricity and Antiferroelectricity of Doped Thin HfO2-Based Films: Fid-Bau Portal

Ferroelectricity and Antiferroelectricity of Doped Thin HfO2-Based Films

Park, M. H. / Lee, Y. H. / Kim, H. J. / Kim, Y. J. / Moon, T. / Kim, K. D. / Mller, J. / Kersch, A. / Schroeder, U. / Mikolajick, T.

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Park, M. H. / Lee, Y. H. / Kim, H. J. / Kim, Y. J. / Moon, T. / Kim, K. D. / Mller, J. / Kersch, A. / Schroeder, U. / Mikolajick, T.

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Titel:

Ferroelectricity and Antiferroelectricity of Doped Thin HfO2-Based Films

Beteiligte:

Park, M. H. (Autor:in) / Lee, Y. H. (Autor:in) / Kim, H. J. (Autor:in) / Kim, Y. J. (Autor:in) / Moon, T. (Autor:in) / Kim, K. D. (Autor:in) / Mller, J. (Autor:in) / Kersch, A. (Autor:in) / Schroeder, U. (Autor:in) / Mikolajick, T. (Autor:in)

Erschienen in:

ADVANCED MATERIALS -DEERFIELD BEACH THEN WEINHEIM- ; 27 ; 1811-1831

Erscheinungsdatum:

01.01.2015

Format / Umfang:

21 pages

ISSN:

0935-9648

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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