Study of hafnium oxide thin films deposited by RF magnetron sputtering under glancing angle deposition at varying target to substrate distance: Fid-Bau Portal

Study of hafnium oxide thin films deposited by RF magnetron sputtering under glancing angle deposition at varying target to substrate distance

Haque, S. M. / Rao, K. D. / Misal, J. S. / Tokas, R. B. / Shinde, D. D. / Ramana, J. V. / Rai, S. / Sahoo, N. K.

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Titel:

Study of hafnium oxide thin films deposited by RF magnetron sputtering under glancing angle deposition at varying target to substrate distance

Beteiligte:

Haque, S. M. (Autor:in) / Rao, K. D. (Autor:in) / Misal, J. S. (Autor:in) / Tokas, R. B. (Autor:in) / Shinde, D. D. (Autor:in) / Ramana, J. V. (Autor:in) / Rai, S. (Autor:in) / Sahoo, N. K. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 353 ; 459-468

Erscheinungsdatum:

01.01.2015

Format / Umfang:

10 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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