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Evolution of arsenic in high fluence plasma immersion ion implanted silicon: Behavior of the as-implanted surface

Vishwanath, V. / Demenev, E. / Giubertoni, D. / Vanzetti, L. / Koh, A. L. / Steinhauser, G. / Pepponi, G. / Bersani, M. / Meirer, F. / Foad, M. A.

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Titel:

Evolution of arsenic in high fluence plasma immersion ion implanted silicon: Behavior of the as-implanted surface

Beteiligte:

Vishwanath, V. (Autor:in) / Demenev, E. (Autor:in) / Giubertoni, D. (Autor:in) / Vanzetti, L. (Autor:in) / Koh, A. L. (Autor:in) / Steinhauser, G. (Autor:in) / Pepponi, G. (Autor:in) / Bersani, M. (Autor:in) / Meirer, F. (Autor:in) / Foad, M. A. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 355 ; 792-799

Erscheinungsdatum:

01.01.2015

Format / Umfang:

8 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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