Platelet activation behavior on nitrogen plasma-implanted silicon: Fid-Bau Portal

Platelet activation behavior on nitrogen plasma-implanted silicon

Wan, G. J. / Huang, N. / Yang, P. / Fu, R. K. / Ho, J. P. / Xie, X. / Zhou, H. F. / Chu, P. K.

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Titel:

Platelet activation behavior on nitrogen plasma-implanted silicon

Beteiligte:

Wan, G. J. (Autor:in) / Huang, N. (Autor:in) / Yang, P. (Autor:in) / Fu, R. K. (Autor:in) / Ho, J. P. (Autor:in) / Xie, X. (Autor:in) / Zhou, H. F. (Autor:in) / Chu, P. K. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING -AMSTERDAM THEN LAUSANNE- C ; 27 ; 928-932

Erscheinungsdatum:

01.01.2007

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0928-4931

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.1 / 660

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