Atomic oxygen treatment effects on magnetron sputtered Zr

Atomic oxygen treatment effects on magnetron sputtered Zr–Ti binary films

Wang, W. / Li, Z. / Zhang, Z. / Dong, S. / Liu, Y.

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Titel:

Atomic oxygen treatment effects on magnetron sputtered Zr–Ti binary films

Beteiligte:

Wang, W. (Autor:in) / Li, Z. (Autor:in) / Zhang, Z. (Autor:in) / Dong, S. (Autor:in) / Liu, Y. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 324 ; 669-676

Erscheinungsdatum:

01.01.2015

Format / Umfang:

8 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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