TiN-buffered substrates for photoelectrochemical measurements of oxynitride thin films: Fid-Bau Portal

TiN-buffered substrates for photoelectrochemical measurements of oxynitride thin films

Pichler, M. / Pergolesi, D. / Landsmann, S. / Chawla, V. / Michler, J. / Döbeli, M. / Wokaun, A. / Lippert, T.

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Titel:

TiN-buffered substrates for photoelectrochemical measurements of oxynitride thin films

Beteiligte:

Pichler, M. (Autor:in) / Pergolesi, D. (Autor:in) / Landsmann, S. (Autor:in) / Chawla, V. (Autor:in) / Michler, J. (Autor:in) / Döbeli, M. (Autor:in) / Wokaun, A. (Autor:in) / Lippert, T. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 369 ; 67-75

Erscheinungsdatum:

01.01.2016

Format / Umfang:

9 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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