Structure and antireflection properties of SiNWs arrays form mc-Si wafer through Ag-catalyzed chemical etching: Fid-Bau Portal

Structure and antireflection properties of SiNWs arrays form mc-Si wafer through Ag-catalyzed chemical etching

Li, S. / Ma, W. / Chen, X. / Xie, K. / Li, Y. / He, X. / Yang, X. / Lei, Y.

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Titel:

Structure and antireflection properties of SiNWs arrays form mc-Si wafer through Ag-catalyzed chemical etching

Beteiligte:

Li, S. (Autor:in) / Ma, W. (Autor:in) / Chen, X. (Autor:in) / Xie, K. (Autor:in) / Li, Y. (Autor:in) / He, X. (Autor:in) / Yang, X. (Autor:in) / Lei, Y. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 369 ; 232-240

Erscheinungsdatum:

01.01.2016

Format / Umfang:

9 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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