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    Titel:

    Temperature-dependent microstructural evolution of Ti2AlN thin films deposited by reactive magnetron sputtering

    Beteiligte:

    Zhang, Z. (Autor:in) / Jin, H. (Autor:in) / Chai, J. (Autor:in) / Pan, J. (Autor:in) / Seng, H. L. (Autor:in) / Goh, G. T. (Autor:in) / Wong, L. M. (Autor:in) / Sullivan, M. B. (Autor:in) / Wang, S. J. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 368 ; 88-96

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2016

    Format / Umfang:

    9 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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