Action mechanism of hydrogen gas on deposition of HfC coating using HfCl4-CH4-H2-Ar system: Fid-Bau Portal

Action mechanism of hydrogen gas on deposition of HfC coating using HfCl4-CH4-H2-Ar system

Wang, Y. / Li, Z. / Xiong, X. / Li, X. / Chen, Z. / Sun, W.

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Titel:

Action mechanism of hydrogen gas on deposition of HfC coating using HfCl4-CH4-H2-Ar system

Beteiligte:

Wang, Y. (Autor:in) / Li, Z. (Autor:in) / Xiong, X. (Autor:in) / Li, X. (Autor:in) / Chen, Z. (Autor:in) / Sun, W. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 390 ; 903-908

Erscheinungsdatum:

01.01.2016

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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