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    Titel:

    Oxygen vacancy induced structure change and interface reaction in HfO2 films on native SiO2/Si substrate

    Beteiligte:

    Yan, K. (Autor:in) / Yao, W. (Autor:in) / Zhao, Y. (Autor:in) / Yang, L. (Autor:in) / Cao, J. (Autor:in) / Zhu, Y. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 390 ; 260-265

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2016

    Format / Umfang:

    6 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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