Monitoring of stress–strain evolution in thin films by reflection anisotropy spectroscopy and synchrotron X-ray diffraction: Fid-Bau Portal

Monitoring of stress–strain evolution in thin films by reflection anisotropy spectroscopy and synchrotron X-ray diffraction

Wyss, A. / Sologubenko, A. S. / Mishra, N. / Gruber, P. A. / Spolenak, R.

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Titel:

Monitoring of stress–strain evolution in thin films by reflection anisotropy spectroscopy and synchrotron X-ray diffraction

Beteiligte:

Wyss, A. (Autor:in) / Sologubenko, A. S. (Autor:in) / Mishra, N. (Autor:in) / Gruber, P. A. (Autor:in) / Spolenak, R. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE ; 52 ; 6741-6753

Erscheinungsdatum:

01.01.2017

Format / Umfang:

13 pages

ISSN:

0022-2461

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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