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    Titel:

    Quantification of germanium-induced suppression of interstitial injection during oxidation of silicon

    Beteiligte:

    Martin, T. P. (Autor:in) / Jones, K. S. (Autor:in) / Camillo-Castillo, R. A. (Autor:in) / Hatem, C. (Autor:in) / Xin, Y. (Autor:in) / Elliman, R. G. (Autor:in)

    Erschienen in:

    JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE ; 52 ; 10387-10392

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2017

    Format / Umfang:

    6 pages

    ISSN:

    0022-2461

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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