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A rasterization method for generating exposure pattern images with optical maskless lithography

Lee, J. / Lee, H. / Yang, J.

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Titel:

A rasterization method for generating exposure pattern images with optical maskless lithography

Beteiligte:

Lee, J. (Autor:in) / Lee, H. (Autor:in) / Yang, J. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MECHANICAL SCIENCE AND TECHNOLOGY ; 32 ; 2209-2218

Erscheinungsdatum:

01.01.2018

Format / Umfang:

10 pages

ISSN:

1738-494X

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621

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