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    Dokumentinformationen
    Titel:

    Structure and characteristics of reactive magnetron sputtered (CrTaTiVZr)N coatings

    Beteiligte:

    Chang, Zue-Chin (Autor:in) / Tsai, Du-Cheng (Autor:in) / Chen, Erh-Chiang (Autor:in)

    Erschienen in:

    Materials science in semiconductor processing ; 39 ; 30-39

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2015

    Format / Umfang:

    10 pages

    ISSN:

    1369-8001

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.38152

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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