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    Dokumentinformationen
    Titel:

    Electroless deposition of NiCrB diffusion barrier layer film for ULSI-Cu metallization

    Beteiligte:

    Wang, Yuechun (Autor:in) / Chen, Xiuhua (Autor:in) / Ma, Wenhui (Autor:in) / Shang, Yudong (Autor:in) / Lei, Zhengtao (Autor:in) / Xiang, Fuwei (Autor:in)

    Erschienen in:

    Applied surface science ; 396 ; 333-338

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2017

    Format / Umfang:

    6 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.44

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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