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    Dokumentinformationen
    Titel:

    Research on HfSiN Diffusion Barrier Thin Film for Micro-Nanoscale ULSI-Cu Metallization

    Beteiligte:

    Liu, X.M. (Autor:in) / Chen, X.H. (Autor:in) / Han, Y.Q. (Autor:in) / Ma, W.H. (Autor:in) / He, J.L. (Autor:in) / Xiao, Y.Y. (Autor:in) / Li, J. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MATERIALS SCIENCE FORUM ; 809/810 ; 583-588

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2015

    Format / Umfang:

    6 pages

    ISSN:

    0255-5476

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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