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    Titel:

    Atomistic scale nanoscratching behavior of monocrystalline Cu influenced by water film in CMP process

    Beteiligte:

    Shi, Junqin (Autor:in) / Chen, Juan (Autor:in) / Fang, Liang (Autor:in) / Sun, Kun (Autor:in) / Sun, Jiapeng (Autor:in) / Han, Jing (Autor:in)

    Erschienen in:

    Applied surface science ; 435 ; 983-992

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2018

    Format / Umfang:

    10 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.44

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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