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    Titel:

    In situ atomic layer nitridation on the top and down regions of the amorphous and crystalline high-K gate dielectrics

    Beteiligte:

    Tsai, Meng-Chen (Autor:in) / Lee, Min-Hung (Autor:in) / Kuo, Chin-Lung (Autor:in) / Lin, Hsin-Chih (Autor:in) / Chen, Miin-Jang (Autor:in)

    Erschienen in:

    Applied surface science ; 387 ; 274-279

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2016

    Format / Umfang:

    6 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.44

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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