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    Titel:

    Growth of high quality n-Al0.5Ga0.5N thick films by MOCVD

    Beteiligte:

    He, Chenguang (Autor:in) / Qin, Zhixin (Autor:in) / Xu, Fujun (Autor:in) / Zhang, Lisheng (Autor:in) / Wang, Mingxing (Autor:in) / Hou, Mengjun (Autor:in) / Guo, Weiwei (Autor:in) / Zhang, Shan (Autor:in) / Wang, Xinqiang (Autor:in) / Shen, Bo (Autor:in)

    Erschienen in:

    MATERIALS LETTERS ; 176 ; 298-300

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2016

    Format / Umfang:

    3 pages

    ISSN:

    0167-577X

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Unbekannt

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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