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Oxygen plasma etching of multi-layer resists
Oxygen plasma etching of multi-layer resists
Oxygen plasma etching of multi-layer resists
Hartney, Mark Alan (Autor:in)
1989
203 S
Berkeley, Univ.of California, Ph.D.Thesis 1988
Langzeitarchivierung durch Technische Informationsbibliothek (TIB) / Leibniz-Informationszentrum Technik und Naturwissenschaften und Universitätsbibliothek
Buch
Unbekannt
Reactive Ion Etching of Silicon Containing Resists
Springer Verlag | 1990
|British Library Online Contents | 2000
breakwater provided with single layer block that strongly resists buoyancy
Europäisches Patentamt | 2021
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IEEE | 1927