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ATOMIC LAYER DEPOSITION OF ELECTROCHEMICAL CATALYSTS

PRINZ FRIEDRICH B / JARAMILLO THOMAS FRANCISCO / GRAF TANJA / SCHLADT THOMAS / HUEBNER GEROLD / XU SHICHENG / KIM YONGMIN / YUSUF MAHA / HIGGINS DREW CHRISTOPHER

Abstract

A method includes (1) functionalizing a substrate to yield a functionalized substrate; and (2) depositing a catalyst on the functionalized substrate by atomic layer deposition to form a thin film of the catalyst covering the functionalized substrate.

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Titel:

ATOMIC LAYER DEPOSITION OF ELECTROCHEMICAL CATALYSTS

Weitere Titelangaben:

ATOMLAGENABSCHEIDUNG VON ELEKTROCHEMISCHEN KATALYSATOREN
DÉPÔT DE COUCHE ATOMIQUE DE CATALYSEURS ÉLECTROCHIMIQUES

Beteiligte:

PRINZ FRIEDRICH B (Autor:in) / JARAMILLO THOMAS FRANCISCO (Autor:in) / GRAF TANJA (Autor:in) / SCHLADT THOMAS (Autor:in) / HUEBNER GEROLD (Autor:in) / XU SHICHENG (Autor:in) / KIM YONGMIN (Autor:in) / YUSUF MAHA (Autor:in) / HIGGINS DREW CHRISTOPHER (Autor:in)

Erscheinungsdatum:

13.05.2020

Medientyp:

Patent

Format:

Elektronische Ressource

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

IPC: B01J Chemische oder physikalische Verfahren, z.B. Katalyse oder Kolloidchemie , CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY / C04B Kalk , LIME / C23C Beschichten metallischer Werkstoffe , COATING METALLIC MATERIAL / H05H Plasmatechnik , PLASMA TECHNIQUE

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