Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik
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PLASMA RESISTANT MEMBER
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a plasma resistant member capable of enhancing close adhesion strength or close adhesion force of a coating film covering an inner wall of a chamber or reducing the number of particles.SOLUTION: Provided is a plasma resistant member which includes: a base material; and a layer structure formed on a surface of the base material, including polycrystalline yttria, and having plasma resistance. The layer structure includes: a first uneven structure; and a second uneven structure which is formed superimposed on the first uneven structure and has unevenness which is finer than that in the first uneven structure.SELECTED DRAWING: Figure 1
【課題】チャンバーの内壁を覆う被膜の密着強度あるいは密着力を高めることができる、あるいはパーティクルを低減することができる耐プラズマ性部材を提供することを目的とする。【解決手段】基材と、前記基材の表面に形成されイットリア多結晶体を含み耐プラズマ性を有する層状構造物と、を備え、前記層状構造物は、第１の凹凸構造と、前記第１の凹凸構造に重畳して形成され前記第１の凹凸構造よりも微細な凹凸を有する第２の凹凸構造と、を有することを特徴とする耐プラズマ性部材が提供される。【選択図】図１
PLASMA RESISTANT MEMBER
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a plasma resistant member capable of enhancing close adhesion strength or close adhesion force of a coating film covering an inner wall of a chamber or reducing the number of particles.SOLUTION: Provided is a plasma resistant member which includes: a base material; and a layer structure formed on a surface of the base material, including polycrystalline yttria, and having plasma resistance. The layer structure includes: a first uneven structure; and a second uneven structure which is formed superimposed on the first uneven structure and has unevenness which is finer than that in the first uneven structure.SELECTED DRAWING: Figure 1
【課題】チャンバーの内壁を覆う被膜の密着強度あるいは密着力を高めることができる、あるいはパーティクルを低減することができる耐プラズマ性部材を提供することを目的とする。【解決手段】基材と、前記基材の表面に形成されイットリア多結晶体を含み耐プラズマ性を有する層状構造物と、を備え、前記層状構造物は、第１の凹凸構造と、前記第１の凹凸構造に重畳して形成され前記第１の凹凸構造よりも微細な凹凸を有する第２の凹凸構造と、を有することを特徴とする耐プラズマ性部材が提供される。【選択図】図１
PLASMA RESISTANT MEMBER
耐プラズマ性部材
IWAZAWA JUNICHI (Autor:in) / AOSHIMA TOSHIHIRO (Autor:in)
18.10.2018
Patent
Elektronische Ressource
Japanisch