CYLINDRICAL CERAMIC SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME: Fid-Bau Portal

CYLINDRICAL CERAMIC SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD OF THE SAME

JI DONGGU / AKIBA SATOMI / TAKEUCHI TOMOYA

SOLUTION: A cylindrical ceramic sputtering target includes a cylindrical base material, a cylindrical ceramic target material, and a solder to joint the cylindrical base material and the cylindrical ceramic target material. A deviation between the cylindrical base material and the cylindrical ceramic target material at both edges is 0.5 mm or less, and the cylindrical ceramic target material includes at least two divided cylindrical ceramic target material, steps between the divided cylindrical ceramic target material adjacent each other on an external surface of each of the divided cylindrical ceramic target material being both 0.3 mm or less.EFFECT: A cylindrical ceramic sputtering target according to the invention is capable of forming a uniform thin film by sputtering up to a life end. A manufacturing apparatus and a manufacturing method according to the invention are capable of suitably manufacturing the cylindrical ceramic sputtering target.SELECTED DRAWING: None

【解決手段】円筒形基材、円筒形セラミックスターゲット材、および前記円筒形基材と円筒形セラミックスターゲット材とを接合する半田を備えた円筒形セラミックススパッタリングターゲットであって、前記円筒形基材と前記円筒形セラミックスターゲット材との両端におけるズレが０．５ｍｍ以下である円筒形セラミックススパッタリングターゲット、および、前記円筒形セラミックスターゲット材が少なくとも２個の分割円筒形セラミックスターゲット材を含み、前記各分割円筒形セラミックスターゲット材の外表面における、隣り合う前記分割円筒形セラミックスターゲット材間の段差がいずれも０．３ｍｍ以下である円筒形セラミックススパッタリングターゲット。【効果】本発明の円筒形セラミックススパッタリングターゲットは、スパッタリングによりライフエンドまで均質な薄膜を形成することができる。本発明の円筒形セラミックススパッタリングターゲットの製造装置および製造方法は、前記円筒形セラミックススパッタリングターゲットを好適に製造することができる。【選択図】なし

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