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CERAMIC SUBSTRATE, ELECTROSTATIC CHUCK, AND MANUFACTURING METHOD FOR ELECTROSTATIC CHUCK
To provide an electrostatic chuck with a conductor layer formed into ceramics constituted of aluminum oxide of high purity.SOLUTION: A loading base 20 of an electrostatic chuck 1 includes a substrate body 21 and an electrostatic electrode 31 inscribed in the substrate body 21. The substrate body 21 includes an insulator layer 22 which is ceramics constituted of aluminum oxide and a composite oxide layer 23 of aluminum and silicon formed between the insulator layer 22 and the electrostatic electrode 31.SELECTED DRAWING: Figure 1
【課題】高純度の酸化アルミニウムからなるセラミックスに形成された導電体層を有する静電チャックを提供すること。【解決手段】静電チャック１の載置台２０は、基板本体２１と、基板本体２１に内接された静電電極３１を含む。基板本体２１は、酸化アルミニウムからなるセラミックスである絶縁体層２２と、絶縁体層２２と静電電極３１との間に形成されたアルミニウムとケイ素の複合酸化物層２３とを備えている。【選択図】図１
CERAMIC SUBSTRATE, ELECTROSTATIC CHUCK, AND MANUFACTURING METHOD FOR ELECTROSTATIC CHUCK
To provide an electrostatic chuck with a conductor layer formed into ceramics constituted of aluminum oxide of high purity.SOLUTION: A loading base 20 of an electrostatic chuck 1 includes a substrate body 21 and an electrostatic electrode 31 inscribed in the substrate body 21. The substrate body 21 includes an insulator layer 22 which is ceramics constituted of aluminum oxide and a composite oxide layer 23 of aluminum and silicon formed between the insulator layer 22 and the electrostatic electrode 31.SELECTED DRAWING: Figure 1
【課題】高純度の酸化アルミニウムからなるセラミックスに形成された導電体層を有する静電チャックを提供すること。【解決手段】静電チャック１の載置台２０は、基板本体２１と、基板本体２１に内接された静電電極３１を含む。基板本体２１は、酸化アルミニウムからなるセラミックスである絶縁体層２２と、絶縁体層２２と静電電極３１との間に形成されたアルミニウムとケイ素の複合酸化物層２３とを備えている。【選択図】図１
CERAMIC SUBSTRATE, ELECTROSTATIC CHUCK, AND MANUFACTURING METHOD FOR ELECTROSTATIC CHUCK
セラミックス基板、静電チャック、静電チャックの製造方法
MINEMURA TOMOTAKE (Autor:in)
30.08.2021
Patent
Elektronische Ressource
Japanisch
Ceramic Composition Electrostatic Chuck and Manufacturing Method of Electrostatic Chuck
Europäisches Patentamt | 2023
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