Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik
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SPUTTERING TARGET MATERIAL AND SPUTTERING TARGET
To provide a sputtering target material excellent in characteristics.SOLUTION: A sputtering target material is composed of a sintered body of an oxide including potassium, sodium, niobium, and oxygen. A number average particle diameter Nd and an area average particle diameter Nv in a plurality of crystal grains observed on a sputter surface satisfy a relational expression (Nv-Nd)/Nd≤2.1, or the area average particle diameter Nv and an area average standard deviation Ns satisfy a relational expression Ns/Nv≤0.76.SELECTED DRAWING: Figure 1
【課題】特性に優れたスパッタリングターゲット材を提供する。【解決手段】カリウム、ナトリウム、ニオブ、及び酸素を含む酸化物の焼結体からなるスパッタリングターゲット材であって、スパッタ面にて観察される複数の結晶粒における、数平均粒子径Ｎｄ、および、面積平均粒子径Ｎｖが、（Ｎｖ－Ｎｄ）／Ｎｄ≦２．１の関係式を満たすか、面積平均粒子径Ｎｖ、および、面積平均標準偏差Ｎｓが、Ｎｓ／Ｎｖ≦０．７６の関係式を満たす。【選択図】図１
SPUTTERING TARGET MATERIAL AND SPUTTERING TARGET
To provide a sputtering target material excellent in characteristics.SOLUTION: A sputtering target material is composed of a sintered body of an oxide including potassium, sodium, niobium, and oxygen. A number average particle diameter Nd and an area average particle diameter Nv in a plurality of crystal grains observed on a sputter surface satisfy a relational expression (Nv-Nd)/Nd≤2.1, or the area average particle diameter Nv and an area average standard deviation Ns satisfy a relational expression Ns/Nv≤0.76.SELECTED DRAWING: Figure 1
【課題】特性に優れたスパッタリングターゲット材を提供する。【解決手段】カリウム、ナトリウム、ニオブ、及び酸素を含む酸化物の焼結体からなるスパッタリングターゲット材であって、スパッタ面にて観察される複数の結晶粒における、数平均粒子径Ｎｄ、および、面積平均粒子径Ｎｖが、（Ｎｖ－Ｎｄ）／Ｎｄ≦２．１の関係式を満たすか、面積平均粒子径Ｎｖ、および、面積平均標準偏差Ｎｓが、Ｎｓ／Ｎｖ≦０．７６の関係式を満たす。【選択図】図１
SPUTTERING TARGET MATERIAL AND SPUTTERING TARGET
スパッタリングターゲット材およびスパッタリングターゲット
NAKADA KUNIHIKO (Autor:in) / NISHIOKA KOJI (Autor:in)
31.05.2023
Patent
Elektronische Ressource
Japanisch