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INDIUM OXIDE SINTERED COMPACT AND SPUTTERING TARGET
산화인듐 결정에, 알루미늄 및 스칸듐으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 금속의 산화물이 고용되고, 인듐과, 알루미늄 및 스칸듐으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 금속의 원자비((1종 이상의 금속의 합계)/(1종 이상의 금속과 In의 합계)×100)가 0.001% 이상 45% 미만인 소결체.
A sintered body includes an indium oxide crystal, and an oxide solid-dissolved in the indium oxide crystal, the oxide being oxide of one or more metals selected from the group consisting of aluminum and scandium, the sintered body having an atomic ratio "(total of the one or more metals)/(total of the one or more metals and indium)×100)" of 0.001% or more and less than 45%.
INDIUM OXIDE SINTERED COMPACT AND SPUTTERING TARGET
산화인듐 결정에, 알루미늄 및 스칸듐으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 금속의 산화물이 고용되고, 인듐과, 알루미늄 및 스칸듐으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 금속의 원자비((1종 이상의 금속의 합계)/(1종 이상의 금속과 In의 합계)×100)가 0.001% 이상 45% 미만인 소결체.
A sintered body includes an indium oxide crystal, and an oxide solid-dissolved in the indium oxide crystal, the oxide being oxide of one or more metals selected from the group consisting of aluminum and scandium, the sintered body having an atomic ratio "(total of the one or more metals)/(total of the one or more metals and indium)×100)" of 0.001% or more and less than 45%.
INDIUM OXIDE SINTERED COMPACT AND SPUTTERING TARGET
산화인듐계 소결체 및 스퍼터링 타겟
02.11.2015
Patent
Elektronische Ressource
Koreanisch
Oxide sintered compact and sputtering target formed from said oxide sintered compact
Europäisches Patentamt | 2018
|OXIDE SINTERED COMPACT AND SPUTTERING TARGET FORMED FROM SAID OXIDE SINTERED COMPACT
Europäisches Patentamt | 2018
|Oxide sintered compact and sputtering target formed from said oxide sintered compact
Europäisches Patentamt | 2018
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