COMPOUND FOR TRANSPARENT ELECTROCONDUCTIVE THIN FILM METHOD FOR FORMING THIN FILM USING THE SAME: Fid-Bau Portal

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COMPOUND FOR TRANSPARENT ELECTROCONDUCTIVE THIN FILM METHOD FOR FORMING THIN FILM USING THE SAME

본 발명에 따른 실시예에서는 투명도전성 박막 조성물 및 이를 이용한 투명도전성 박막 형성방법이 개시된다. 투명도전성 박막 조성물은 인듐(In), 갈륨(Ga), 게르마늄(Ge), 아연(Zn) 및 산소(O2)를 포함하되, 상기 인듐, 갈륨, 게르마늄 및 아연의 원자수의 비가 하기 식을 만족한다. 25 ≤ (In+Ga)/(In+Ga+Ge+Zn) ≤ 70

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본 발명에 따른 실시예에서는 투명도전성 박막 조성물 및 이를 이용한 투명도전성 박막 형성방법이 개시된다. 투명도전성 박막 조성물은 인듐(In), 갈륨(Ga), 게르마늄(Ge), 아연(Zn) 및 산소(O2)를 포함하되, 상기 인듐, 갈륨, 게르마늄 및 아연의 원자수의 비가 하기 식을 만족한다. 25 ≤ (In+Ga)/(In+Ga+Ge+Zn) ≤ 70

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Titel:

COMPOUND FOR TRANSPARENT ELECTROCONDUCTIVE THIN FILM METHOD FOR FORMING THIN FILM USING THE SAME

Weitere Titelangaben:

투명도전성 박막 조성물, 이를 이용한 투명도전성 박막 형성방법

Erscheinungsdatum:

25.02.2016

Medientyp:

Patent

Format:

Elektronische Ressource

Sprache:

Koreanisch

Klassifikation:

IPC: C04B Kalk , LIME / H01B CABLES , Kabel

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