COMPOUND FOR TRANSPARENT ELECTROCONDUCTIVE THIN FILM METHOD FOR FORMING THIN FILM USING THE SAME AND TRANSPARENT ELECTROCONDUCTIVE THIN FILM MANUFACUTRED THEREBY: Fid-Bau Portal

COMPOUND FOR TRANSPARENT ELECTROCONDUCTIVE THIN FILM METHOD FOR FORMING THIN FILM USING THE SAME AND TRANSPARENT ELECTROCONDUCTIVE THIN FILM MANUFACUTRED THEREBY

Abstract

본 발명에 따른 실시예에서는 투명도전성 박막 조성물, 이를 이용한 투명도전성 박막 형성방법 및 이에 의해 형성되는 투명도전성 박막이 개시된다. 상기 투명도전성 박막 조성물은 인듐(In), 갈륨(Ga), 붕소(B), 아연(Zn) 및 산소(O)를 포함하되, 상기 인듐, 갈륨, 붕소 및 아연의 비율 (In+Ga)/(In+Ga+B+Zn)이 25~65 원자 퍼센트(atomic %)이면서, 붕소의 함량은 4~8 원자 퍼센트(atomic %)인 것을 특징으로 한다.

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Titel:

COMPOUND FOR TRANSPARENT ELECTROCONDUCTIVE THIN FILM METHOD FOR FORMING THIN FILM USING THE SAME AND TRANSPARENT ELECTROCONDUCTIVE THIN FILM MANUFACUTRED THEREBY

Weitere Titelangaben:

투명도전성 박막 조성물, 이를 이용한 투명도전성 박막 형성방법 및 투명도전성 박막

Erscheinungsdatum:

08.06.2016

Medientyp:

Patent

Format:

Elektronische Ressource

Sprache:

Koreanisch

Klassifikation:

IPC: C04B Kalk , LIME / H01B CABLES , Kabel