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Manufacturing method of ceramic electrostatic chuck
본 발명은 세라믹 또는 복합 세라믹 유전층의 고순도화 및 두께의 불균형을 최소화하는 것이 가능한 세라믹제 정전 척의 제조 방법을 제공한다. 본 발명은 밀도 95% 이상의 세라믹 또는 복합 세라믹 유전체층에 전극의 패턴으로서의 홈을 형성하는 공정; 홈에 금속을 형성하여 전극 패턴으로 하는 공정; 유전체층에 접합을 위한 활성화 접합층을 형성하는 공정; 밀도 95% 이상의 세라믹 또는 복합 세라믹 절연체층을 유전체층에 접합하는 공정;을 포함한다.
The present invention provides a method for manufacturing a ceramic electrostatic chuck which enables high purity and minimum thickness variation of a dielectric layer formed of ceramics or composite ceramics. The method includes: forming grooves for electrode pattern formation in a dielectric layer formed of ceramics or composite ceramics and having a density of 95% or greater; forming an electrode pattern by filling the grooves with a metal; forming an activated bonding layer configured for joining on the dielectric layer; and joining an insulator layer, which is formed of ceramics or composite ceramics and has a density of 95% or greater, with the dielectric layer.
Manufacturing method of ceramic electrostatic chuck
본 발명은 세라믹 또는 복합 세라믹 유전층의 고순도화 및 두께의 불균형을 최소화하는 것이 가능한 세라믹제 정전 척의 제조 방법을 제공한다. 본 발명은 밀도 95% 이상의 세라믹 또는 복합 세라믹 유전체층에 전극의 패턴으로서의 홈을 형성하는 공정; 홈에 금속을 형성하여 전극 패턴으로 하는 공정; 유전체층에 접합을 위한 활성화 접합층을 형성하는 공정; 밀도 95% 이상의 세라믹 또는 복합 세라믹 절연체층을 유전체층에 접합하는 공정;을 포함한다.
The present invention provides a method for manufacturing a ceramic electrostatic chuck which enables high purity and minimum thickness variation of a dielectric layer formed of ceramics or composite ceramics. The method includes: forming grooves for electrode pattern formation in a dielectric layer formed of ceramics or composite ceramics and having a density of 95% or greater; forming an electrode pattern by filling the grooves with a metal; forming an activated bonding layer configured for joining on the dielectric layer; and joining an insulator layer, which is formed of ceramics or composite ceramics and has a density of 95% or greater, with the dielectric layer.
Manufacturing method of ceramic electrostatic chuck
세라믹제 정전 척의 제조 방법
19.05.2020
Patent
Elektronische Ressource
Koreanisch
IPC:
H01L
Halbleiterbauelemente
,
SEMICONDUCTOR DEVICES
/
B23Q
DETAILS, COMPONENTS, OR ACCESSORIES FOR MACHINE TOOLS, e.g. ARRANGEMENTS FOR COPYING OR CONTROLLING
,
Einzelheiten, Bestandteile oder Zubehör für Werkzeugmaschinen, z.B. Anordnungen zum Kopieren oder Steuern
/
C04B
Kalk
,
LIME
/
H02N
Elektrische Maschinen, soweit nicht anderweitig vorgesehen
,
ELECTRIC MACHINES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
Ceramic Composition Electrostatic Chuck and Manufacturing Method of Electrostatic Chuck
Europäisches Patentamt | 2023
Ceramic Composition Electrostatic Chuck and Manufacturing Method of Electrostatic Chuck
Europäisches Patentamt | 2017
|CERAMIC SUBSTRATE, ELECTROSTATIC CHUCK, AND MANUFACTURING METHOD FOR ELECTROSTATIC CHUCK
Europäisches Patentamt | 2021
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