Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik
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The present invention relates to a thermal insulation structure which can fundamentally block thermal flux. The thermal insulation structure comprises: a first dielectric which has first thermal conductivity; and a second dielectric structure which is disposed in the first dielectric and formed to have a hollow therein, and has second thermal conductivity. In this case, the first dielectric and the second dielectric structure satisfy the following equation. , [
is a temperature distribution function,
is a thermal conductivity tensor, and
is a position vector]. In addition,
is continuous at the boundary of the first dielectric and the second dielectric structure, and an inner hollow of the second dielectric structure is formed such that thermal distribution is uniform.
열속(Thermal flux)을 근본적으로 차단할 수 있는 단열 구조체가 개시된다. 이러한 단열 구조체는 제1 열전도율을 갖는 제1 유전체와, 상기 제1 유전체 내부에 배치되고, 내부에 공동(hollow)을 갖도록 형성되며, 제2 열전도율을 갖는 제2 유전체 구조물을 포함한다. 이때, 상기 제1 유전체 및 상기 제2 유전체 구조물은 아래의 수학식을 만족한다,[는 온도분포함수이고,는 열전도율 텐서이고,는 위치벡터임]. 또한,은 상기 제1 유전체와 상기 제2 유전체 구조물의 경계에서 연속적이며, 상기 제2 유전체 구조물의 내부 공동은 열분포가 균일하도록 형성된다.
The present invention relates to a thermal insulation structure which can fundamentally block thermal flux. The thermal insulation structure comprises: a first dielectric which has first thermal conductivity; and a second dielectric structure which is disposed in the first dielectric and formed to have a hollow therein, and has second thermal conductivity. In this case, the first dielectric and the second dielectric structure satisfy the following equation. , [
is a temperature distribution function,
is a thermal conductivity tensor, and
is a position vector]. In addition,
is continuous at the boundary of the first dielectric and the second dielectric structure, and an inner hollow of the second dielectric structure is formed such that thermal distribution is uniform.
열속(Thermal flux)을 근본적으로 차단할 수 있는 단열 구조체가 개시된다. 이러한 단열 구조체는 제1 열전도율을 갖는 제1 유전체와, 상기 제1 유전체 내부에 배치되고, 내부에 공동(hollow)을 갖도록 형성되며, 제2 열전도율을 갖는 제2 유전체 구조물을 포함한다. 이때, 상기 제1 유전체 및 상기 제2 유전체 구조물은 아래의 수학식을 만족한다,[는 온도분포함수이고,는 열전도율 텐서이고,는 위치벡터임]. 또한,은 상기 제1 유전체와 상기 제2 유전체 구조물의 경계에서 연속적이며, 상기 제2 유전체 구조물의 내부 공동은 열분포가 균일하도록 형성된다.
The present invention relates to a thermal insulation structure which can fundamentally block thermal flux. The thermal insulation structure comprises: a first dielectric which has first thermal conductivity; and a second dielectric structure which is disposed in the first dielectric and formed to have a hollow therein, and has second thermal conductivity. In this case, the first dielectric and the second dielectric structure satisfy the following equation. , [
is a temperature distribution function,
is a thermal conductivity tensor, and
is a position vector]. In addition,
is continuous at the boundary of the first dielectric and the second dielectric structure, and an inner hollow of the second dielectric structure is formed such that thermal distribution is uniform.
열속(Thermal flux)을 근본적으로 차단할 수 있는 단열 구조체가 개시된다. 이러한 단열 구조체는 제1 열전도율을 갖는 제1 유전체와, 상기 제1 유전체 내부에 배치되고, 내부에 공동(hollow)을 갖도록 형성되며, 제2 열전도율을 갖는 제2 유전체 구조물을 포함한다. 이때, 상기 제1 유전체 및 상기 제2 유전체 구조물은 아래의 수학식을 만족한다,[는 온도분포함수이고,는 열전도율 텐서이고,는 위치벡터임]. 또한,은 상기 제1 유전체와 상기 제2 유전체 구조물의 경계에서 연속적이며, 상기 제2 유전체 구조물의 내부 공동은 열분포가 균일하도록 형성된다.
THERMAL INSULATION STRUCTURE
단열 구조체
AHN DO YEOL (Autor:in)
21.02.2018
Patent
Elektronische Ressource
Koreanisch
IPC:
E04B
Allgemeine Baukonstruktionen
,
GENERAL BUILDING CONSTRUCTIONS
THERMAL INSULATION FILLER, THERMAL INSULATION MATERIAL AND THERMAL INSULATION STRUCTURE
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