Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik
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SHOWER PLATE, SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS, AND SHOWER PLATE MANUFACTURING METHOD
A shower plate according to the present disclosure comprises a ceramic sintered body, and is provided with: a first surface; a second surface opposed to the first surface; and a through-hole positioned between the first surface and the second surface. The shower plate has, on the inner surface of the through-hole, projected crystal particles projecting beyond an exposed part of a particle boundary phase existing between the crystal particles. A semiconductor manufacturing apparatus according to the present disclosure is configured by being provided with the shower plate.
La présente invention concerne une plaque de gerbe incluant un corps fritté en céramique et dotée : d'une première surface ; d'une seconde surface opposée à la première surface ; et d'un orifice traversant positionné entre la première surface et la seconde surface. La plaque de gerbe comporte, sur la surface interne de l'orifice traversant, des particules cristallines projetées en saillie au-delà d'une partie exposée d'une phase de jonction de particules existant entre les particules cristallines. Un appareil de fabrication de semi-conducteurs selon la présente invention est conçu en ce qu'il inclut la plaque de gerbe.
本開示のシャワープレートは、セラミック焼結体からなり、第１面と、該第１面に対向する第２面と、前記第１面および前記第２面の間に位置する貫通孔とを備える。そして、該貫通孔の内面に、結晶粒子間に存在する粒界相の露出部よりも突出した突出結晶粒子を有する。また、本開示の半導体製造装置は、上述したシャワープレートを備えてなる。
SHOWER PLATE, SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS, AND SHOWER PLATE MANUFACTURING METHOD
A shower plate according to the present disclosure comprises a ceramic sintered body, and is provided with: a first surface; a second surface opposed to the first surface; and a through-hole positioned between the first surface and the second surface. The shower plate has, on the inner surface of the through-hole, projected crystal particles projecting beyond an exposed part of a particle boundary phase existing between the crystal particles. A semiconductor manufacturing apparatus according to the present disclosure is configured by being provided with the shower plate.
La présente invention concerne une plaque de gerbe incluant un corps fritté en céramique et dotée : d'une première surface ; d'une seconde surface opposée à la première surface ; et d'un orifice traversant positionné entre la première surface et la seconde surface. La plaque de gerbe comporte, sur la surface interne de l'orifice traversant, des particules cristallines projetées en saillie au-delà d'une partie exposée d'une phase de jonction de particules existant entre les particules cristallines. Un appareil de fabrication de semi-conducteurs selon la présente invention est conçu en ce qu'il inclut la plaque de gerbe.
本開示のシャワープレートは、セラミック焼結体からなり、第１面と、該第１面に対向する第２面と、前記第１面および前記第２面の間に位置する貫通孔とを備える。そして、該貫通孔の内面に、結晶粒子間に存在する粒界相の露出部よりも突出した突出結晶粒子を有する。また、本開示の半導体製造装置は、上述したシャワープレートを備えてなる。
SHOWER PLATE, SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS, AND SHOWER PLATE MANUFACTURING METHOD
PLAQUE DE GERBE, APPAREIL DE FABRICATION DE SEMI-CONDUCTEURS ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE PLAQUE DE GERBE
シャワープレート、半導体製造装置およびシャワープレートの製造方法
NOGUCHI YUKIO (Autor:in) / KAWASE YUUJI (Autor:in) / MATSUFUJI HIROMASA (Autor:in) / TERAMOTO KOUJI (Autor:in)
04.05.2017
Patent
Elektronische Ressource
Japanisch
Shower plate, semiconductor manufacturing apparatus, and method for manufacturing shower plate
| Europäisches Patentamt | 2021
SHOWER PLATE, SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS, AND METHOD FOR MANUFACTURING SHOWER PLATE
| Europäisches Patentamt | 2018
Porous ceramic, member for semiconductor manufacturing apparatus, shower plate and plug
| Europäisches Patentamt | 2024
POROUS CERAMIC, MEMBER FOR SEMICONDUCTOR MANUFACTURING APPARATUS, SHOWER PLATE AND PLUG
| Europäisches Patentamt | 2021