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OXIDE-SINTERED-BODY SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
An oxide-sintered-body sputtering target according to an embodiment of the present invention is formed of a sintered body containing an indium oxide, a zinc oxide, a titanium oxide, and a zirconium oxide, wherein the atomic ratio of titanium with respect to the sum of the amounts of indium, zinc, and titanium is 0.1-20 %, and the specific weight of zirconium with respect to the sum of indium oxide, zinc oxide, titanium oxide, and zirconium oxide is 10-2000 ppm.
Selon un mode de réalisation, la présente invention concerne une cible de pulvérisation à corps fritté à base d'oxyde, constituée d'un corps fritté contenant un oxyde d'indium, un oxyde de zinc, un oxyde de titane et un oxyde de zirconium, le rapport atomique du titane par rapport à la somme des quantités de l'indium, du zinc et du titane allant 0,1 à 20 %, et le poids spécifique du zirconium par rapport à la somme de l'oxyde d'indium, de l'oxyde de zinc, de l'oxyde de titane et de l'oxyde de zirconium étant de 10 à 2000 ppm.
本発明の一形態に係る酸化物焼結体スパッタリングターゲットは、酸化インジウムと、酸化亜鉛と、酸化チタンと、酸化ジルコニウムとを含む焼結体で構成され、インジウム、亜鉛およびチタンの総和に対するチタンの原子比は、０．１％以上２０％以下であり、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化チタンおよび酸化ジルコニウムの総和に対するジルコニウムの重量比は、１０ｐｐｍ以上２０００ｐｐｍ以下である。
OXIDE-SINTERED-BODY SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
An oxide-sintered-body sputtering target according to an embodiment of the present invention is formed of a sintered body containing an indium oxide, a zinc oxide, a titanium oxide, and a zirconium oxide, wherein the atomic ratio of titanium with respect to the sum of the amounts of indium, zinc, and titanium is 0.1-20 %, and the specific weight of zirconium with respect to the sum of indium oxide, zinc oxide, titanium oxide, and zirconium oxide is 10-2000 ppm.
Selon un mode de réalisation, la présente invention concerne une cible de pulvérisation à corps fritté à base d'oxyde, constituée d'un corps fritté contenant un oxyde d'indium, un oxyde de zinc, un oxyde de titane et un oxyde de zirconium, le rapport atomique du titane par rapport à la somme des quantités de l'indium, du zinc et du titane allant 0,1 à 20 %, et le poids spécifique du zirconium par rapport à la somme de l'oxyde d'indium, de l'oxyde de zinc, de l'oxyde de titane et de l'oxyde de zirconium étant de 10 à 2000 ppm.
本発明の一形態に係る酸化物焼結体スパッタリングターゲットは、酸化インジウムと、酸化亜鉛と、酸化チタンと、酸化ジルコニウムとを含む焼結体で構成され、インジウム、亜鉛およびチタンの総和に対するチタンの原子比は、０．１％以上２０％以下であり、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化チタンおよび酸化ジルコニウムの総和に対するジルコニウムの重量比は、１０ｐｐｍ以上２０００ｐｐｍ以下である。
OXIDE-SINTERED-BODY SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
CIBLE DE PULVÉRISATION À CORPS FRITTÉ À BASE D'OXYDE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
酸化物焼結体スパッタリングターゲット及びその製造方法
TAKAHASHI KAZUTOSHI (Autor:in) / HIDAKA KOJI (Autor:in) / KAWAGOE YUU (Autor:in) / TAKESUE KENTAROU (Autor:in) / WADA MASARU (Autor:in) / UENO MITSURU (Autor:in) / KIYOTA JUNYA (Autor:in) / KOBAYASHI MOTOSHI (Autor:in) / TAKEI MASAKI (Autor:in)
29.06.2017
Patent
Elektronische Ressource
Japanisch
OXIDE SINTERED BODY AND SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
| Europäisches Patentamt | 2017
SINTERED BODY, SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
| Europäisches Patentamt | 2018
SINTERED BODY, SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
| Europäisches Patentamt | 2018
OXIDE SINTERED BODY AND SPUTTERING TARGET COMPRISING OXIDE SINTERED BODY
Europäisches Patentamt | 2018
OXIDE SINTERED BODY AND SPUTTERING TARGET COMPRISING OXIDE SINTERED BODY
| Europäisches Patentamt | 2016