Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik
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SINTERED BODY, SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a sintered body capable of effectively suppressing variation of bulk resistance on a surface and inside of a sintered body by an IZO target, a sputtering target and a manufacturing method therefor.SOLUTION: A sintered body is the sintered body of oxide consisting of In, Zn and O, and absolute value of a ratio of difference between bulk resistance ratio at a depth position of 1 mm in a thickness direction from a surface of the sintered body Rs and bulk resistance ratio at a depth position of 4 mm in the thickness direction from the surface of the sintered body Rd divided by bulk resistance rate at the depth position of 4 mm Rd, (Rs-Rd)/Rd is 20% or less by percentage.SELECTED DRAWING: None
【課題】ＩＺＯターゲットで、焼結体表面と内部でのバルク抵抗のばらつきを有効に抑制することのできる焼結体、スパッタリングターゲット及びその製造方法を提供する。【解決手段】この発明の焼結体は、Ｉｎ、Ｚｎ、Ｏからなる酸化物の焼結体であって、前記焼結体の表面から厚み方向に１ｍｍの深さ位置でのバルク抵抗率Ｒｓと、前記焼結体の表面から厚み方向に４ｍｍの深さ位置でのバルク抵抗率Ｒｄとの差を、当該４ｍｍの深さ位置でのバルク抵抗率Ｒｄで除した比率（Ｒｓ−Ｒｄ）／Ｒｄの絶対値が、百分率で表して２０％以下である。【選択図】なし
SINTERED BODY, SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a sintered body capable of effectively suppressing variation of bulk resistance on a surface and inside of a sintered body by an IZO target, a sputtering target and a manufacturing method therefor.SOLUTION: A sintered body is the sintered body of oxide consisting of In, Zn and O, and absolute value of a ratio of difference between bulk resistance ratio at a depth position of 1 mm in a thickness direction from a surface of the sintered body Rs and bulk resistance ratio at a depth position of 4 mm in the thickness direction from the surface of the sintered body Rd divided by bulk resistance rate at the depth position of 4 mm Rd, (Rs-Rd)/Rd is 20% or less by percentage.SELECTED DRAWING: None
【課題】ＩＺＯターゲットで、焼結体表面と内部でのバルク抵抗のばらつきを有効に抑制することのできる焼結体、スパッタリングターゲット及びその製造方法を提供する。【解決手段】この発明の焼結体は、Ｉｎ、Ｚｎ、Ｏからなる酸化物の焼結体であって、前記焼結体の表面から厚み方向に１ｍｍの深さ位置でのバルク抵抗率Ｒｓと、前記焼結体の表面から厚み方向に４ｍｍの深さ位置でのバルク抵抗率Ｒｄとの差を、当該４ｍｍの深さ位置でのバルク抵抗率Ｒｄで除した比率（Ｒｓ−Ｒｄ）／Ｒｄの絶対値が、百分率で表して２０％以下である。【選択図】なし
SINTERED BODY, SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
焼結体、スパッタリングターゲット及びその製造方法
KAKENO TAKASHI (Autor:in) / KAJIYAMA JUN (Autor:in)
22.03.2018
Patent
Elektronische Ressource
Japanisch
SINTERED BODY, SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
| Europäisches Patentamt | 2018
OXIDE-SINTERED-BODY SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
| Europäisches Patentamt | 2017
OXIDE SINTERED BODY AND SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
| Europäisches Patentamt | 2017
SINTERED BODY, SPUTTERING TARGET, AND MANUFACTURING METHOD OF SINTERED BODY
| Europäisches Patentamt | 2020
SINTERED BODY FOR ZnO-MgO-BASED SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
| Europäisches Patentamt | 2016