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MOLYBDENUM OXIDE SPUTTERING TARGET AND MOLYBDENUM OXIDE SPUTTERING TARGET PRODUCTION METHOD
This molybdenum oxide sputtering target comprises a MoOX phase. In the MoOX phase: a MoO2 phase and a MoO3 phase are included; the remaining portion is unavoidable impurities; the area ratio of pores is 5% or less; the average area of pores is 0.5 µm2 or less; and the average particle area of a crystalline structure is 5 µm2 or less.
Cette cible de pulvérisation d'oxyde de molybdène comprend une phase MoOX. Dans la phase MoOX : une phase MoO2 et une phase MoO3 sont incluses ; la partie restante est constitué par des impuretés inévitables ; le rapport de surface des pores est inférieur ou égal à 5 % ; la surface moyenne des pores est inférieure ou égale à 0,5 µm2 ; et la surface moyenne des particules d'une structure cristalline est inférieure ou égale à 5 µm2.
この酸化モリブデンスパッタリングターゲットは、ＭｏＯＸ相で構成され、前記ＭｏＯＸ相は、ＭｏＯ２相およびＭｏＯ３相を有し、残部が不可避不純物であり、空孔の面積率が５％以下とされるとともに、空孔の平均面積が０．５μｍ２以下とされており、結晶組織の平均粒子面積が５μｍ２以下である。
MOLYBDENUM OXIDE SPUTTERING TARGET AND MOLYBDENUM OXIDE SPUTTERING TARGET PRODUCTION METHOD
This molybdenum oxide sputtering target comprises a MoOX phase. In the MoOX phase: a MoO2 phase and a MoO3 phase are included; the remaining portion is unavoidable impurities; the area ratio of pores is 5% or less; the average area of pores is 0.5 µm2 or less; and the average particle area of a crystalline structure is 5 µm2 or less.
Cette cible de pulvérisation d'oxyde de molybdène comprend une phase MoOX. Dans la phase MoOX : une phase MoO2 et une phase MoO3 sont incluses ; la partie restante est constitué par des impuretés inévitables ; le rapport de surface des pores est inférieur ou égal à 5 % ; la surface moyenne des pores est inférieure ou égale à 0,5 µm2 ; et la surface moyenne des particules d'une structure cristalline est inférieure ou égale à 5 µm2.
この酸化モリブデンスパッタリングターゲットは、ＭｏＯＸ相で構成され、前記ＭｏＯＸ相は、ＭｏＯ２相およびＭｏＯ３相を有し、残部が不可避不純物であり、空孔の面積率が５％以下とされるとともに、空孔の平均面積が０．５μｍ２以下とされており、結晶組織の平均粒子面積が５μｍ２以下である。
MOLYBDENUM OXIDE SPUTTERING TARGET AND MOLYBDENUM OXIDE SPUTTERING TARGET PRODUCTION METHOD
CIBLE DE PULVÉRISATION D'OXYDE DE MOLYBDÈNE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE CIBLE DE PULVÉRISATION D'OXYDE DE MOLYBDÈNE
酸化モリブデンスパッタリングターゲット、および、酸化モリブデンスパッタリングターゲットの製造方法
UMEMOTO KEITA (Autor:in) / SUGIUCHI YUKIYA (Autor:in) / OKANO SHIN (Autor:in) / OHTOMO TAKESHI (Autor:in)
13.01.2022
Patent
Elektronische Ressource
Japanisch
MOLYBDENUM OXIDE SINTERED BODY, SPUTTERING TARGET, AND OXIDE THIN FILM
| Europäisches Patentamt | 2024
MOLYBDENUM OXIDE SINTERED BODY SPUTTERING TARGET AND OXIDE THIN FILM
| Europäisches Patentamt | 2024
MOLYBDENUM OXIDE SINTERED BODY SPUTTERING TARGET AND OXIDE THIN FILM
| Europäisches Patentamt | 2023
MOLYBDENUM OXIDE SINTERED BODY SPUTTERING TARGET AND OXIDE THIN FILM
| Europäisches Patentamt | 2023
MOLYBDENUM OXIDE SINTERED BODY SPUTTERING TARGET AND OXIDE THIN FILM
| Europäisches Patentamt | 2024