A platform for research: civil engineering, architecture and urbanism
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（Ｇａ）ＺｎＳｎ酸化物スパッタリングターゲット
１ピーストップコートが、少なくとも８０ｃｍの長さを有することを特徴とする、亜鉛、スズ、及び任意選択的にガリウムの酸化物混合物を含む１ピーストップコートを有するスパッタリングターゲット、かかるスパッタリングターゲットを形成するための方法、並びに膜を形成するためのかかるターゲットの使用。
A sputtering target having a one-piece top coat comprising a mixture of oxides of zinc, tin, and optionally gallium, characterized in that said one-piece top coat has a length of at least 80 cm; a method for forming such a sputtering target and the use of such a target for forming films.
（Ｇａ）ＺｎＳｎ酸化物スパッタリングターゲット
１ピーストップコートが、少なくとも８０ｃｍの長さを有することを特徴とする、亜鉛、スズ、及び任意選択的にガリウムの酸化物混合物を含む１ピーストップコートを有するスパッタリングターゲット、かかるスパッタリングターゲットを形成するための方法、並びに膜を形成するためのかかるターゲットの使用。
A sputtering target having a one-piece top coat comprising a mixture of oxides of zinc, tin, and optionally gallium, characterized in that said one-piece top coat has a length of at least 80 cm; a method for forming such a sputtering target and the use of such a target for forming films.
（Ｇａ）ＺｎＳｎ酸化物スパッタリングターゲット
2016-03-07
Patent
Electronic Resource
Japanese