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LiCoO2 CONTAINING SPUTTERING TARGET AND LiCoO2 CONTAINING SINTERED BODY
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a LiCoOcontaining sputtering target capable of sufficiently suppressing the occurrence of particles to continue stable sputtering electric discharge when a LiCoOcontaining thin film is formed by sputtering.SOLUTION: The LiCoOcontaining sputtering target satisfies an average grain size of 3-5 μm and a relative density of 80-92%. The peak half value width of a peak appearing in a region of 485±5 cmin Raman spectroscopy spectral measurement is 88% or less of the peak half value width of a target used as a reference, and the peak intensity is 106% or more of the peak intensity of the target used as a reference. The peak half value width and peak intensity of the target used as a reference are results of a Raman spectroscopy spectral measurement of a target obtained by sequentially sintering, heating, dry processing molding and bonding using a raw material powder on the same conditions as the LiCoOcontaining sputtering target.SELECTED DRAWING: Figure 1
【課題】ＬｉＣｏＯ2含有薄膜の形成をスパッタリングで行うときに、パーティクルの発生が十分に抑えられ、安定したスパッタ放電を継続することのできるＬｉＣｏＯ2含有スパッタリングターゲットを提供する。【解決手段】上記ＬｉＣｏＯ2含有スパッタリングターゲットは、平均結晶粒径３〜５μｍ、および相対密度８０〜９２％を満たし、更に、ラマン分光スペクトル測定で４８５±５ｃｍ-1の領域に表れるピークの、ピーク半値幅が、基準となるターゲットのピーク半値幅の８８％以下、かつピーク強度が、基準となるターゲットのピーク強度の１０６％以上であることを特徴とする。前記基準となるターゲットのピーク半値幅とピーク強度は、前記ＬｉＣｏＯ2含有スパッタリングターゲットと同じ条件で、原料粉末を用いた焼結、加熱処理、乾式加工成形、およびボンディングを順次行って得られるターゲットのラマン分光スペクトル測定結果である。【選択図】図１
LiCoO2 CONTAINING SPUTTERING TARGET AND LiCoO2 CONTAINING SINTERED BODY
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a LiCoOcontaining sputtering target capable of sufficiently suppressing the occurrence of particles to continue stable sputtering electric discharge when a LiCoOcontaining thin film is formed by sputtering.SOLUTION: The LiCoOcontaining sputtering target satisfies an average grain size of 3-5 μm and a relative density of 80-92%. The peak half value width of a peak appearing in a region of 485±5 cmin Raman spectroscopy spectral measurement is 88% or less of the peak half value width of a target used as a reference, and the peak intensity is 106% or more of the peak intensity of the target used as a reference. The peak half value width and peak intensity of the target used as a reference are results of a Raman spectroscopy spectral measurement of a target obtained by sequentially sintering, heating, dry processing molding and bonding using a raw material powder on the same conditions as the LiCoOcontaining sputtering target.SELECTED DRAWING: Figure 1
【課題】ＬｉＣｏＯ2含有薄膜の形成をスパッタリングで行うときに、パーティクルの発生が十分に抑えられ、安定したスパッタ放電を継続することのできるＬｉＣｏＯ2含有スパッタリングターゲットを提供する。【解決手段】上記ＬｉＣｏＯ2含有スパッタリングターゲットは、平均結晶粒径３〜５μｍ、および相対密度８０〜９２％を満たし、更に、ラマン分光スペクトル測定で４８５±５ｃｍ-1の領域に表れるピークの、ピーク半値幅が、基準となるターゲットのピーク半値幅の８８％以下、かつピーク強度が、基準となるターゲットのピーク強度の１０６％以上であることを特徴とする。前記基準となるターゲットのピーク半値幅とピーク強度は、前記ＬｉＣｏＯ2含有スパッタリングターゲットと同じ条件で、原料粉末を用いた焼結、加熱処理、乾式加工成形、およびボンディングを順次行って得られるターゲットのラマン分光スペクトル測定結果である。【選択図】図１
LiCoO2 CONTAINING SPUTTERING TARGET AND LiCoO2 CONTAINING SINTERED BODY
ＬｉＣｏＯ２含有スパッタリングターゲットおよびＬｉＣｏＯ２含有焼結体
SAKAMOTO HISATOSHI (author) / HAYASHI KAZUSHI (author) / TAKETOMI YUICHI (author) / KANAMARU MORIYOSHI (author)
2017-05-25
Patent
Electronic Resource
Japanese
| European Patent Office | 2017
| European Patent Office | 2018
| European Patent Office | 2017
European Patent Office | 2017
LiCoO2-CONTAINING SINTERED BODY AND TUBULAR SPUTTERING TARGET
| European Patent Office | 2018