A platform for research: civil engineering, architecture and urbanism
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LICOO2-CONTAINING SINTERED COMPACT, LICOO2-CONTAINING SPUTTERING TARGET, AND LICOO2-CONTAINING SINTERED COMPACT MANUFACTURING METHOD
The present invention achieves a LiCoO2-containing sintered compact: with which film formation rate can be accelerated during sputtering, particularly even when forming film with only pulse DC discharge sputtering; with which the generation of flakes due to the sputtering is limited; and which is not susceptible to cracking and is easy to handle. Said LiCoO2-containing sintered compact is characterized in satisfying all of: mean crystal grain diameter being 10-40 µm; relative density being at least 90%; and resistivity being 100 Ω∙cm or less.
La présente invention permet d'obtenir un compact fritté contenant du LiCoO2 : avec lequel la vitesse de formation d'un film peut être accélérée pendant la pulvérisation cathodique, en particulier même lors de la formation d'un film avec seulement une pulvérisation cathodique à décharge en courant continu pulsé ; avec laquelle la production de flocons résultant de la pulvérisation cathodique est limitée ; et qui n'est pas susceptible de se fissurer et est facile à manipuler. Ce compact fritté contenant du LiCoO2 est caractérisé en ce qu'il satisfait toutes les caractéristiques suivantes : un diamètre de grain cristallin moyen de l'ordre de 10 à 40 µm ; une densité relative d'au moins 90 % ; et une résistivité de 100 Ω∙cm ou moins.
スパッタリング時、特にはパルスＤＣ放電スパッタリングでのみ成膜する場合であっても成膜レートを早めることができ、かつスパッタリングによるフレークの発生が抑えられ、更には割れにくく取り扱いやすいＬｉＣｏＯ2含有焼結体を実現する。 上記ＬｉＣｏＯ2含有焼結体は、平均結晶粒径：１０～４０μｍ、相対密度：９０％以上、および比抵抗：１００Ω・ｃｍ以下の全てを満たすところに特徴を有する。
LICOO2-CONTAINING SINTERED COMPACT, LICOO2-CONTAINING SPUTTERING TARGET, AND LICOO2-CONTAINING SINTERED COMPACT MANUFACTURING METHOD
The present invention achieves a LiCoO2-containing sintered compact: with which film formation rate can be accelerated during sputtering, particularly even when forming film with only pulse DC discharge sputtering; with which the generation of flakes due to the sputtering is limited; and which is not susceptible to cracking and is easy to handle. Said LiCoO2-containing sintered compact is characterized in satisfying all of: mean crystal grain diameter being 10-40 µm; relative density being at least 90%; and resistivity being 100 Ω∙cm or less.
La présente invention permet d'obtenir un compact fritté contenant du LiCoO2 : avec lequel la vitesse de formation d'un film peut être accélérée pendant la pulvérisation cathodique, en particulier même lors de la formation d'un film avec seulement une pulvérisation cathodique à décharge en courant continu pulsé ; avec laquelle la production de flocons résultant de la pulvérisation cathodique est limitée ; et qui n'est pas susceptible de se fissurer et est facile à manipuler. Ce compact fritté contenant du LiCoO2 est caractérisé en ce qu'il satisfait toutes les caractéristiques suivantes : un diamètre de grain cristallin moyen de l'ordre de 10 à 40 µm ; une densité relative d'au moins 90 % ; et une résistivité de 100 Ω∙cm ou moins.
スパッタリング時、特にはパルスＤＣ放電スパッタリングでのみ成膜する場合であっても成膜レートを早めることができ、かつスパッタリングによるフレークの発生が抑えられ、更には割れにくく取り扱いやすいＬｉＣｏＯ2含有焼結体を実現する。 上記ＬｉＣｏＯ2含有焼結体は、平均結晶粒径：１０～４０μｍ、相対密度：９０％以上、および比抵抗：１００Ω・ｃｍ以下の全てを満たすところに特徴を有する。
LICOO2-CONTAINING SINTERED COMPACT, LICOO2-CONTAINING SPUTTERING TARGET, AND LICOO2-CONTAINING SINTERED COMPACT MANUFACTURING METHOD
COMPACT FRITTÉ CONTENANT DU LICOO2, CIBLE DE PULVÉRISATION CATHODIQUE CONTENANT DU LICOO2, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE COMPACT FRITTÉ CONTENANT DU LICOO2
ＬｉＣｏＯ２含有焼結体およびＬｉＣｏＯ２含有スパッタリングターゲット、並びにＬｉＣｏＯ２含有焼結体の製造方法
TAKETOMI YUICHI (author) / YOSHIDA SHINTARO (author) / KANAMARU MORIYOSHI (author)
2017-04-20
Patent
Electronic Resource
Japanese
IPC:
C23C
Beschichten metallischer Werkstoffe
,
COATING METALLIC MATERIAL
/
C04B
Kalk
,
LIME
/
H01M
Verfahren oder Mittel, z.B. Batterien, für die direkte Umwandlung von chemischer in elektrische Energie
,
PROCESSES OR MEANS, e.g. BATTERIES, FOR THE DIRECT CONVERSION OF CHEMICAL ENERGY INTO ELECTRICAL ENERGY
| European Patent Office | 2018
LiCoO2 CONTAINING SPUTTERING TARGET AND LiCoO2 CONTAINING SINTERED BODY
| European Patent Office | 2017
| European Patent Office | 2017
European Patent Office | 2017
LiCoO2-CONTAINING SINTERED BODY AND TUBULAR SPUTTERING TARGET
| European Patent Office | 2018