A platform for research: civil engineering, architecture and urbanism
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SPUTTERING TARGET MEMBER, SPUTTERING TARGET ASSEMBLY AND METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET MEMBER
To provide a sputtering target member capable of bonding with a backing member while preventing the mechanical strength of a target material from being reduced; a sputtering target assembly including the sputtering target member; and a method for manufacturing the sputtering target member.SOLUTION: The sputtering target member sequentially comprises: a target material consisting of an oxide ceramic sintered body; a ground layer consisting of In-Ni alloy on at least one surface of the target material; and a bonding layer including In of 50 mass% or more.SELECTED DRAWING: Figure 1
【課題】本発明は、ターゲット材の機械的強度の低下を抑制しつつ、バッキング部材との接合が可能であるスパッタリングターゲット部材、及びこのようなスパッタリングターゲット部材を備えるスパッタリングターゲット組立体、並びにスパッタリングターゲット部材の製造方法を提供することを課題とする。【解決手段】酸化物セラミックス焼結体からなるターゲット材と、前記ターゲット材の少なくとも一方の表面に、Ｉｎ−Ｎｉ合金からなる下地層と、インジウムを５０質量％以上含有する接合層とを順に備えるスパッタリングターゲット部材。【選択図】図１
SPUTTERING TARGET MEMBER, SPUTTERING TARGET ASSEMBLY AND METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET MEMBER
To provide a sputtering target member capable of bonding with a backing member while preventing the mechanical strength of a target material from being reduced; a sputtering target assembly including the sputtering target member; and a method for manufacturing the sputtering target member.SOLUTION: The sputtering target member sequentially comprises: a target material consisting of an oxide ceramic sintered body; a ground layer consisting of In-Ni alloy on at least one surface of the target material; and a bonding layer including In of 50 mass% or more.SELECTED DRAWING: Figure 1
【課題】本発明は、ターゲット材の機械的強度の低下を抑制しつつ、バッキング部材との接合が可能であるスパッタリングターゲット部材、及びこのようなスパッタリングターゲット部材を備えるスパッタリングターゲット組立体、並びにスパッタリングターゲット部材の製造方法を提供することを課題とする。【解決手段】酸化物セラミックス焼結体からなるターゲット材と、前記ターゲット材の少なくとも一方の表面に、Ｉｎ−Ｎｉ合金からなる下地層と、インジウムを５０質量％以上含有する接合層とを順に備えるスパッタリングターゲット部材。【選択図】図１
SPUTTERING TARGET MEMBER, SPUTTERING TARGET ASSEMBLY AND METHOD FOR MANUFACTURING SPUTTERING TARGET MEMBER
スパッタリングターゲット部材、スパッタリングターゲット組立体及びスパッタリングターゲット部材の製造方法
KAKENO TAKASHI (author) / KUGE TOSHIHIRO (author)
2019-10-10
Patent
Electronic Resource
Japanese
European Patent Office | 2021
| European Patent Office | 2019
| European Patent Office | 2020
MANUFACTURING METHOD OF SPUTTERING TARGET MEMBER, AND SPUTTERING TARGET MEMBER
| European Patent Office | 2020
| European Patent Office | 2020