A platform for research: civil engineering, architecture and urbanism
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CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD OF CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET
원통축 방향의 길이가 470 mm 이상인 원통형 소결체, 원통형 스퍼터링 타겟 및 그러한 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명의 일 실시 형태에 의한 원통형 스퍼터링 타겟의 제조 방법은, 원통형 소결체를 가지는 원통형 스퍼터링 타겟의 제조 방법에 있어서, 산소를 공급하기 위한 배관과 접속하는 산소 공급구를 마련한 스테이지 상에 원통축 방향의 길이가 600 mm 이상인 원통형 성형체를 배치하고, 원통형 성형체의 원통 내측에 마련된 원통 내주보다 작은 산소 공급구로부터 원통축 방향으로 산소를 공급하면서 소결한다. 또한, 다른 형태에 있어서, 스테이지는 챔버 안에 배치되고, 산소를 공급하기 위한 배관은 챔버의 밖으로부터 산소 공급구에 접속될 수도 있다.
To provide a cylindrical type sintered compact of 470 mm or more long in a cylindrical axial direction, a cylindrical type sputtering target and a method for producing the same. A method for producing a cylindrical type sputtering target according to one embodiment in this invention being a method for producing a cylindrical type sputtering target having a cylindrical type sintered compact, in which a cylindrical type compact of 600 mm or more long in a cylindrical axial direction on a stage provided with an oxygen feed port in contact with piping for feeding oxygen, and sintering is performed while oxygen is being fed in the cylindrical axial direction from an oxygen feed port smaller than the cylindrical inner circumference provided at the cylindrical inside of the cylindrical type compact. Also, in an another embodiment, it is possible that the stage is arranged in a chamber, and the piping for feeding oxygen is connected to the oxygen feed port from the outside of the chamber.
CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD OF CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET
원통축 방향의 길이가 470 mm 이상인 원통형 소결체, 원통형 스퍼터링 타겟 및 그러한 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명의 일 실시 형태에 의한 원통형 스퍼터링 타겟의 제조 방법은, 원통형 소결체를 가지는 원통형 스퍼터링 타겟의 제조 방법에 있어서, 산소를 공급하기 위한 배관과 접속하는 산소 공급구를 마련한 스테이지 상에 원통축 방향의 길이가 600 mm 이상인 원통형 성형체를 배치하고, 원통형 성형체의 원통 내측에 마련된 원통 내주보다 작은 산소 공급구로부터 원통축 방향으로 산소를 공급하면서 소결한다. 또한, 다른 형태에 있어서, 스테이지는 챔버 안에 배치되고, 산소를 공급하기 위한 배관은 챔버의 밖으로부터 산소 공급구에 접속될 수도 있다.
To provide a cylindrical type sintered compact of 470 mm or more long in a cylindrical axial direction, a cylindrical type sputtering target and a method for producing the same. A method for producing a cylindrical type sputtering target according to one embodiment in this invention being a method for producing a cylindrical type sputtering target having a cylindrical type sintered compact, in which a cylindrical type compact of 600 mm or more long in a cylindrical axial direction on a stage provided with an oxygen feed port in contact with piping for feeding oxygen, and sintering is performed while oxygen is being fed in the cylindrical axial direction from an oxygen feed port smaller than the cylindrical inner circumference provided at the cylindrical inside of the cylindrical type compact. Also, in an another embodiment, it is possible that the stage is arranged in a chamber, and the piping for feeding oxygen is connected to the oxygen feed port from the outside of the chamber.
CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD OF CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET
원통형 스퍼터링 타겟 및 그 제조 방법
2019-07-17
Patent
Electronic Resource
Korean
CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD OF CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET
| European Patent Office | 2017
CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD OF CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET
| European Patent Office | 2019
CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD OF CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET
European Patent Office | 2023
CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD OF CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET
| European Patent Office | 2018
| European Patent Office | 2016