CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD OF CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET: Fid-Bau Portal

CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD OF CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET

TATENO SATORU / OSADA KOZO

원통축 방향의 길이가 470 mm 이상인 원통형 소결체, 원통형 스퍼터링 타겟 및 그러한 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명의 일 실시 형태에 의한 원통형 스퍼터링 타겟의 제조 방법은, 원통형 소결체를 가지는 원통형 스퍼터링 타겟의 제조 방법에 있어서, 산소를 공급하기 위한 배관과 접속하는 산소 공급구를 마련한 스테이지 상에 원통축 방향의 길이가 600 mm 이상인 원통형 성형체를 배치하고, 원통형 성형체의 원통 내측에 마련된 원통 내주보다 작은 산소 공급구로부터 원통축 방향으로 산소를 공급하면서 소결한다. 또한, 다른 형태에 있어서, 스테이지는 챔버 안에 배치되고, 산소를 공급하기 위한 배관은 챔버의 밖으로부터 산소 공급구에 접속될 수도 있다.

It is an object of the present invention to provide a cylindrical sintered body, a cylindrical sputtering target, and a method for producing the same in a cylindrical axis direction of 470 mm or more. A method of manufacturing a cylindrical sputtering target according to an embodiment of the present invention is a method of manufacturing a cylindrical sputtering target having a cylindrical sintered body in which a cylinder having a cylinder length of 600 mm or more The shaped body is disposed on a pedestal provided with an oxygen supply port connected to a pipe for oxygen supply and is provided on a pedestal having a length slightly smaller than an inner circumference of the cylinder provided inside the cylinder of the cylindrical molded body Cylinder axis direction of oxygen at the same time sintering. In another embodiment, it is also possible to arrange the pedestal in the chamber, and the piping for oxygen supply is connected from the outside of the chamber to the oxygen supply port.

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