CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD OF CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET: Fid-Bau Portal

CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET AND MANUFACTURING METHOD OF CYLINDRICAL SPUTTERING TARGET

TATENO SATORU / OSADA KOZO

The present invention relates to a cylindrical sintered body having the length of 470 mm or more in a cylindrical shaft direction, a cylindrical sputtering target, and a manufacturing method thereof. According to the manufacturing method of the cylindrical sputtering target having the cylindrical sintered body of an embodiment of the present invention, a cylindrical molded body having the length of 600 mm or more in a cylindrical shaft direction is disposed on a stage having an oxygen supply hole connected to a pipe for supplying oxygen, and is sintered by supplying oxygen in a cylindrical shaft direction from the oxygen supply hole, which is smaller than a cylinder inner circumference provided inside a cylinder of the cylindrical molded body. Also, according to another embodiment of the present invention, a stage is disposed in a chamber, and the pipe for supplying oxygen may be connected to the oxygen supply port from the outside of the chamber.

원통축 방향의 길이가 470 mm 이상인 원통형 소결체, 원통형 스퍼터링 타겟 및 그러한 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명의 일 실시 형태에 의한 원통형 스퍼터링 타겟의 제조 방법은, 원통형 소결체를 가지는 원통형 스퍼터링 타겟의 제조 방법에 있어서, 산소를 공급하기 위한 배관과 접속하는 산소 공급구를 마련한 스테이지 상에 원통축 방향의 길이가 600 mm 이상인 원통형 성형체를 배치하고, 원통형 성형체의 원통 내측에 마련된 원통 내주보다 작은 산소 공급구로부터 원통축 방향으로 산소를 공급하면서 소결한다. 또한, 다른 형태에 있어서, 스테이지는 챔버 안에 배치되고, 산소를 공급하기 위한 배관은 챔버의 밖으로부터 산소 공급구에 접속될 수도 있다.

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