A platform for research: civil engineering, architecture and urbanism
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스퍼터링 타깃 및 스퍼터링 타깃의 제조 방법
이 스퍼터링 타깃은, 금속구리상과 산화구리상을 갖고, 상기 산화구리상의 체적률이 80 vol％ 를 초과하고 90 vol％ 이하의 범위 내로 되어 있고, X 선 광전자 분광 분석의 결과, CuO 의 피크 강도 IP1 과 Cu 및 Cu2O 의 피크 강도 IP2 의 비 IP1/IP2 가, 0.03 이상 0.4 이하의 범위 내로 되어 있는 것을 특징으로 한다.
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a sputtering target that allows for stable DC sputter and being manufactured with excellent yield while inhibiting generation of crack in manufacturing the target, and to provide a method for manufacturing the sputtering target.SOLUTION: A sputtering target has a metallic copper phase and a copper oxide phase, where a volume ratio of the copper oxide phase exceeds 80 vol% and is within a range of 90 vol% or less. As a result of X-ray photoelectron spectroscopy, a ratio IP1/IP2 of a peak strength IP1 of CuO to a peak strength IP2 of CuO is within a range of 0.03 or more and 0.4 or less.SELECTED DRAWING: Figure 5
스퍼터링 타깃 및 스퍼터링 타깃의 제조 방법
이 스퍼터링 타깃은, 금속구리상과 산화구리상을 갖고, 상기 산화구리상의 체적률이 80 vol％ 를 초과하고 90 vol％ 이하의 범위 내로 되어 있고, X 선 광전자 분광 분석의 결과, CuO 의 피크 강도 IP1 과 Cu 및 Cu2O 의 피크 강도 IP2 의 비 IP1/IP2 가, 0.03 이상 0.4 이하의 범위 내로 되어 있는 것을 특징으로 한다.
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a sputtering target that allows for stable DC sputter and being manufactured with excellent yield while inhibiting generation of crack in manufacturing the target, and to provide a method for manufacturing the sputtering target.SOLUTION: A sputtering target has a metallic copper phase and a copper oxide phase, where a volume ratio of the copper oxide phase exceeds 80 vol% and is within a range of 90 vol% or less. As a result of X-ray photoelectron spectroscopy, a ratio IP1/IP2 of a peak strength IP1 of CuO to a peak strength IP2 of CuO is within a range of 0.03 or more and 0.4 or less.SELECTED DRAWING: Figure 5
스퍼터링 타깃 및 스퍼터링 타깃의 제조 방법
2021-09-13
Patent
Electronic Resource
Korean