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COMPOSITE OXIDE SINTERED BODY SPUTTERING TARGET TRANSPARENT CONDUCTIVE OXIDE FILM AND METHOD FOR PRODUCING SAME
The present invention provides a composite oxide sintered body comprising one component of gallium, tantalum, and niobium as a dopant (X) in a composite oxide sintered body composition containing indium, titanium, zirconium, and oxygen, wherein titanium includes 0.1-0.5 atomic% of Ti/(In+Ti+Zr+X) in atomic ratio, and the zirconium contains 0.1-0.5 atomic % in atomic ratio, and a sputtering target made of the sintered product and a transparent conductive oxide film made therefrom.
본 발명은 인듐, 티타늄, 지르코늄 및 산소를 포함하는 복합 산화물 소결체 조성물에 도펀트(X)로 갈륨, 탄탈륨, 니오븀 중 하나의 성분을 포함하고, 상기 티타늄은 원자비로 Ti/(In+Ti+Zr+X)가 0.1 ~ 0.5 원자%, 상기 지르코늄은 원자비로 Zr/(In+Ti+Zr+X)가 0.1 ~ 1.5 원자%를 포함하는 것을 특징으로 하는 복합산화물 소결체 및 상기 소결체로 이루어진 스퍼터링 타겟 및 이로부터 제조된 산화물 투명 도전막을 제공하는 것을 특징으로 한다.
COMPOSITE OXIDE SINTERED BODY SPUTTERING TARGET TRANSPARENT CONDUCTIVE OXIDE FILM AND METHOD FOR PRODUCING SAME
The present invention provides a composite oxide sintered body comprising one component of gallium, tantalum, and niobium as a dopant (X) in a composite oxide sintered body composition containing indium, titanium, zirconium, and oxygen, wherein titanium includes 0.1-0.5 atomic% of Ti/(In+Ti+Zr+X) in atomic ratio, and the zirconium contains 0.1-0.5 atomic % in atomic ratio, and a sputtering target made of the sintered product and a transparent conductive oxide film made therefrom.
본 발명은 인듐, 티타늄, 지르코늄 및 산소를 포함하는 복합 산화물 소결체 조성물에 도펀트(X)로 갈륨, 탄탈륨, 니오븀 중 하나의 성분을 포함하고, 상기 티타늄은 원자비로 Ti/(In+Ti+Zr+X)가 0.1 ~ 0.5 원자%, 상기 지르코늄은 원자비로 Zr/(In+Ti+Zr+X)가 0.1 ~ 1.5 원자%를 포함하는 것을 특징으로 하는 복합산화물 소결체 및 상기 소결체로 이루어진 스퍼터링 타겟 및 이로부터 제조된 산화물 투명 도전막을 제공하는 것을 특징으로 한다.
COMPOSITE OXIDE SINTERED BODY SPUTTERING TARGET TRANSPARENT CONDUCTIVE OXIDE FILM AND METHOD FOR PRODUCING SAME
복합 산화물 소결체 및 스퍼터링 타겟, 산화물 투명도전막의 제조방법
KIM SANG HUI (author)
2019-02-13
Patent
Electronic Resource
Korean
European Patent Office | 2019
European Patent Office | 2019
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European Patent Office | 2019
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