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COMPOSITE OXIDE SINTERED BODY, SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR MANUFACTURING OXIDE TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM
The present invention provides: a composite oxide sintered body in which a composite oxide sintered body composition comprising indium, titanium, zirconium and oxygen comprises, as a dopant (X), one element among gallium, tantalum and niobium, wherein the titanium is included in an atomic ratio of Ti/(In+Ti+Zr+X) of 0.1-0.5 atom% and the zirconium is included in an atomic ratio of Zr/(In+Ti+Zr+X) of 0.1-1.5 atom%; a sputtering target formed from a sintered body; and an oxide transparent conductive film manufactured therefrom.
La présente invention concerne : un corps fritté obtenu par frittage d'un oxyde composite, dans lequel une composition de corps fritté obtenu par frittage d'un oxyde composite, contenant de l'indium, du titane, du zirconium et de l'oxygène, comprend en tant que dopant (X) un élément parmi le gallium, le tantale et le niobium, le titane étant contenu dans un rapport atomique Ti/(In+Ti+Zr+X) de 0,1 à 0,5 % atomique et le zirconium étant contenu dans un rapport atomique Zr/(In+Ti+Zr+X) de 0,1 à 1,5 % atomique ; une cible de pulvérisation formée à partir d'un corps fritté ; et un film conducteur transparent d'oxyde fabriqué à partir de celui-ci.
본 발명은 인듐, 티타늄, 지르코늄 및 산소를 포함하는 복합 산화물 소결체 조성물에 도펀트(X)로 갈륨, 탄탈륨, 니오븀 중 하나의 성분을 포함하고, 상기 티타늄은 원자비로 Ti/(In+Ti+Zr+X)가 0.1 ~ 0.5 원자%, 상기 지르코늄은 원자비로 Zr/(In+Ti+Zr+X)가 0.1 ~ 1.5 원자%를 포함하는 것을 특징으로 하는 복합산화물 소결체 및 상기 소결체로 이루어진 스퍼터링 타겟 및 이로부터 제조된 산화물 투명 도전막을 제공하는 것을 특징으로 한다.
COMPOSITE OXIDE SINTERED BODY, SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR MANUFACTURING OXIDE TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM
The present invention provides: a composite oxide sintered body in which a composite oxide sintered body composition comprising indium, titanium, zirconium and oxygen comprises, as a dopant (X), one element among gallium, tantalum and niobium, wherein the titanium is included in an atomic ratio of Ti/(In+Ti+Zr+X) of 0.1-0.5 atom% and the zirconium is included in an atomic ratio of Zr/(In+Ti+Zr+X) of 0.1-1.5 atom%; a sputtering target formed from a sintered body; and an oxide transparent conductive film manufactured therefrom.
La présente invention concerne : un corps fritté obtenu par frittage d'un oxyde composite, dans lequel une composition de corps fritté obtenu par frittage d'un oxyde composite, contenant de l'indium, du titane, du zirconium et de l'oxygène, comprend en tant que dopant (X) un élément parmi le gallium, le tantale et le niobium, le titane étant contenu dans un rapport atomique Ti/(In+Ti+Zr+X) de 0,1 à 0,5 % atomique et le zirconium étant contenu dans un rapport atomique Zr/(In+Ti+Zr+X) de 0,1 à 1,5 % atomique ; une cible de pulvérisation formée à partir d'un corps fritté ; et un film conducteur transparent d'oxyde fabriqué à partir de celui-ci.
본 발명은 인듐, 티타늄, 지르코늄 및 산소를 포함하는 복합 산화물 소결체 조성물에 도펀트(X)로 갈륨, 탄탈륨, 니오븀 중 하나의 성분을 포함하고, 상기 티타늄은 원자비로 Ti/(In+Ti+Zr+X)가 0.1 ~ 0.5 원자%, 상기 지르코늄은 원자비로 Zr/(In+Ti+Zr+X)가 0.1 ~ 1.5 원자%를 포함하는 것을 특징으로 하는 복합산화물 소결체 및 상기 소결체로 이루어진 스퍼터링 타겟 및 이로부터 제조된 산화물 투명 도전막을 제공하는 것을 특징으로 한다.
COMPOSITE OXIDE SINTERED BODY, SPUTTERING TARGET, AND METHOD FOR MANUFACTURING OXIDE TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM
CORPS FRITTÉ OBTENU PAR FRITTAGE D'UN OXYDE COMPOSITE, CIBLE DE PULVÉRISATION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN FILM CONDUCTEUR TRANSPARENT D'OXYDE
복합 산화물 소결체 및 스퍼터링 타겟, 산화물 투명도전막의 제조방법
KIM SANG-HUI (author)
2019-02-07
Patent
Electronic Resource
Korean
OXIDE SINTERED BODY, SPUTTERING TARGET, AND TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM
| European Patent Office | 2019
European Patent Office | 2019
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European Patent Office | 2018